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      型號(hào):XTD

      鍍層測(cè)厚儀,X熒光光譜儀

      描述:鍍層測(cè)厚儀,X熒光光譜儀是熒光光譜儀的一種,使用高效而實(shí)用的正比計(jì)數(shù)盒和電制冷探測(cè)器,以實(shí)在的價(jià)格定位滿足鍍層厚度測(cè)量的要求,且全新的更具有現(xiàn)代感的外形、結(jié)構(gòu)及色彩設(shè)計(jì),使儀器操作更人性化、更方便.多年鍍層測(cè)厚檢測(cè)技術(shù)和經(jīng)驗(yàn),以*的產(chǎn)品配置、功能齊全的測(cè)試軟件、友好的操作界面來(lái)滿足金屬鍍層及含量測(cè)定的需要,人性化的設(shè)計(jì),使測(cè)試工作更加輕松完成。

      • 廠商性質(zhì)

        經(jīng)銷商
      • 更新時(shí)間

        2025-05-19
      • 訪問量

        1507
      詳細(xì)介紹
      品牌其他品牌價(jià)格區(qū)間面議
      產(chǎn)地類別國(guó)產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,包裝/造紙/印刷

      鍍層測(cè)厚儀是熒光光譜儀的一種,使用高效而實(shí)用的正比計(jì)數(shù)盒和電制冷探測(cè)器,以實(shí)在的價(jià)格定位滿足鍍層厚度測(cè)量的要求,且全新的更具有現(xiàn)代感的外形、結(jié)構(gòu)及色彩設(shè)計(jì),使儀器操作更人性化、更方便。

      是集儀器多年鍍層測(cè)厚檢測(cè)技術(shù)和經(jīng)驗(yàn),以*的產(chǎn)品配置、功能齊全的測(cè)試軟件、友好的操作界面來(lái)滿足金屬鍍層及含量測(cè)定的需要,人性化的設(shè)計(jì),使測(cè)試工作更加輕松完成。

       

      性能特點(diǎn)

       

      長(zhǎng)效穩(wěn)定X銅光管

      半導(dǎo)體硅片電制冷系統(tǒng),摒棄液氮制冷

      信噪比增強(qiáng)器(SNE

      內(nèi)置高清晰攝像頭,方便用戶隨時(shí)觀測(cè)樣品

      脈沖處理器,數(shù)據(jù)處理快速準(zhǔn)確

      手動(dòng)開關(guān)樣品腔,操作安全方便

      三重安全保護(hù)模式

      整體鋼架結(jié)構(gòu)、外型高貴時(shí)尚

      FP軟件,無(wú)標(biāo)準(zhǔn)樣品時(shí)亦可測(cè)量

       

      技術(shù)指標(biāo)

       


      分析范圍: Ti-U,可分析315個(gè)元素

      分析厚度:一般0.05-30um(不同元素厚度有所不同)

      工作電壓:AC 110V/220V(建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源)

      測(cè)量時(shí)間:40秒(可根據(jù)實(shí)際情況調(diào)整)

      探測(cè)器分辨率:(160±5eV

      光管高壓:5-50kV

      管流:50μA-1000μA

      環(huán)境溫度:15-30

      環(huán)境濕度:30%-70%

      準(zhǔn)直器:配置不同直徑準(zhǔn)直孔,小孔徑φ0.2mm

      儀器尺寸:610(L) x 355 (W) x 380H mm

      儀器重量:30kg

       

      應(yīng)用領(lǐng)域

       

      鍍層測(cè)厚儀廣泛應(yīng)用于金屬鍍層的厚度測(cè)量、電鍍液和鍍層含量的測(cè)定電鍍、PCB、電子電器、氣配五金、衛(wèi)浴等行業(yè)

       

      經(jīng)濟(jì)型鍍層測(cè)厚儀——X熒光光譜儀

        

      儀器介紹

       

      是集多年的經(jīng)驗(yàn),專門研發(fā)用于鍍層行業(yè)的一款儀器,可全自動(dòng)軟件操作,可多點(diǎn)測(cè)試,由軟件控制儀器的測(cè)試點(diǎn),以及移動(dòng)平臺(tái)。是一款功能*的儀器,配上專門為其開發(fā)的軟件,在鍍層行業(yè)中可謂大展身手。

       

      性能特點(diǎn)

       

      滿足各種不同厚度樣品以及不規(guī)則表面樣品的測(cè)試需求

      φ0.1mm的小孔準(zhǔn)直器可以滿足微小測(cè)試點(diǎn)的需求

      高精度移動(dòng)平臺(tái)可定位測(cè)試點(diǎn),重復(fù)定位精度小于0.005mm

      采用高度定位激光,可自動(dòng)定位測(cè)試高度

      定位激光確定定位光斑,確保測(cè)試點(diǎn)與光斑對(duì)齊

      鼠標(biāo)可控制移動(dòng)平臺(tái),鼠標(biāo)點(diǎn)擊的位置就是被測(cè)點(diǎn)

      高分辨率探頭使分析結(jié)果更加精準(zhǔn)

      良好的射線屏蔽作用

      測(cè)試口高度敏感性傳感器保護(hù)

       

      技術(shù)指標(biāo)

       

      元素分析范圍從硫(S)到鈾(U)。

      同時(shí)可以分析30種以上元素,五層鍍層。

      分析含量一般為ppm99.9% 

      鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)(每種材料有所不同)

      任意多個(gè)可選擇的分析和識(shí)別模型。

      相互獨(dú)立的基體效應(yīng)校正模型。

      多變量非線性回收程序

      度適應(yīng)范圍為15℃至30℃。

      電源交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源。

      外觀尺寸: 576(W)×495(D)×545(H) mm

      樣品室尺寸:500(W)×350(D)×140(H) mm

      重量:90kg

       

      標(biāo)準(zhǔn)配置

       

      開放式樣品腔。

      精密二維移動(dòng)樣品平臺(tái),探測(cè)器和X光管上下可動(dòng),實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。

      雙激光定位裝置。

      鉛玻璃屏蔽罩。

      Si-Pin探測(cè)器。

      信號(hào)檢測(cè)電子電路。

      高低壓電源。

      X光管。

      高度傳感器

      保護(hù)傳感器

      計(jì)算機(jī)及噴墨打印機(jī)

       

      應(yīng)用領(lǐng)域

       

      黃金,鉑,銀等貴金屬和各種首飾的含量檢測(cè).

      金屬鍍層的厚度測(cè)量電鍍液和鍍層含量的測(cè)定。

      主要用于貴金屬加工和首飾加工行業(yè);銀行,首飾銷售和檢測(cè)機(jī)構(gòu);電鍍行業(yè)。

       

      型鍍層測(cè)厚儀——X熒光光譜儀

       

      鍍層測(cè)厚儀是專門針對(duì)鍍層厚度測(cè)量而精心設(shè)計(jì)的一款新型儀器。主要應(yīng)用于:金屬鍍層的厚度測(cè)量、電鍍液和鍍層含量的測(cè)定;黃金、鉑、銀等貴金屬和各種首飾的含量檢測(cè)。

       

      性能優(yōu)勢(shì)

       

      1.精密的三維移動(dòng)平臺(tái)

      2.的樣品觀測(cè)系統(tǒng)

      3.*圖像識(shí)別

      4.輕松實(shí)現(xiàn)深槽樣品的檢測(cè)

      5.四種微孔聚焦準(zhǔn)直器,自動(dòng)切換

      6.雙重保護(hù)措施,實(shí)現(xiàn)無(wú)縫防撞

      7.采用大面積高分辨率探測(cè)器,有效降低檢出限,提高測(cè)試精度

       

      全自動(dòng)智能控制方式,一鍵式操作!

      開機(jī)自動(dòng)自檢、復(fù)位;

      開蓋自動(dòng)退出樣品臺(tái),升起Z軸測(cè)試平臺(tái),方便放樣;

      關(guān)蓋推進(jìn)樣品臺(tái),下降Z軸測(cè)試平臺(tái)并自動(dòng)完成對(duì)焦;

      直接點(diǎn)擊全景或局部景圖像選取測(cè)試點(diǎn);

      點(diǎn)擊軟件界面測(cè)試按鈕,自動(dòng)完成測(cè)試并顯示結(jié)果。

       

      技術(shù)指標(biāo)

       

      分析元素范圍:硫(S)~鈾(U

      同時(shí)檢測(cè)元素:多24個(gè)元素,多達(dá)5層鍍層

      分析含量:一般為2ppm99.9%

      鍍層厚度:一般在50μm以內(nèi)(每種材料有所不同)

      SDD探測(cè)器:分辨率低至135eV

      *微孔準(zhǔn)直技術(shù):小孔徑達(dá)0.1mm,小光斑達(dá)0.1mm

      樣品觀察:配備全景和局部?jī)蓚€(gè)工業(yè)高清攝像頭

      準(zhǔn)直器:0.3×0.05mm、Ф0.1mm、Ф0.2mm與Ф0.3mm四種準(zhǔn)直器組合

      儀器尺寸:690Wx 575Dx 660Hmm

      樣品室尺寸:520Wx 395Dx150Hmm

      樣品臺(tái)尺寸:393Wx 258 Dmm

      X/Y/Z平臺(tái)移動(dòng)速度:額定速度200mm/s 速度333.3mm/s

      X/Y/Z平臺(tái)重復(fù)定位精度:小于0.1um

      操作環(huán)境濕度:≤90%

      操作環(huán)境溫度:15℃~30


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